DUBLIN, 29 septembre (Reuters) - Intel INTC.O s'attend à recevoir sa première machine de lithographie à ultraviolet extrême de nouvelle génération, la High-NA EUV, du fabricant néerlandais ASML dans le courant de l'année, a déclaré vendredi à Reuters un cadre supérieur du fabricant américain de puces.
"J'étais chez ASML lundi. Nous devrions recevoir ce site (le High-NA EUV) dans le courant de l'année. Ils s'efforcent de tout mettre en place et d'être prêts. Pour l'instant, tout va bien", a déclaré Ann Kelleher, directrice générale du développement technologique chez Intel, lors d'une interview.
"Il devrait nous être livré dans le courant de l'année. Nous espérons que d'ici la fin de l'année, nous aurons toutes les pièces de la machine, de sorte qu'au début de l'année prochaine, ASML pourra commencer à l'assembler dans l'Oregon", le site de développement d'Intel, a-t-elle ajouté.

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